蒸发镀膜用喷涂镍粉

蒸发镀膜用喷涂镍粉

纯度：99.9% 99.7% 99.5%

粒度：15-45μm 15-53μm；150-270目 150-325目

可根据客户要求定制生产

产品及公司优势

纯度高, 含氧量低，粒度分布均匀，流动性好，喷涂均匀，附着力强，耐磨性好。

我司自主研发多条制粉生产线与真空熔炼生产线，靶材用喷涂粉与靶材锭坯已实现批量化生产，有稳定供应的长期客户，检验严格，库存充足。

系列产品

产品应用

用于靶材喷涂。用于等离子喷涂、激光熔覆、粉末冶金、特种焊条、焊接用原料。

溅射靶材（磁控溅射、离子溅射）：半导体与微电子（导电薄膜，如集成电路（IC）的导电层、电阻层或电磁屏蔽层；TSV硅通孔镀膜，镍薄膜作为铜互连的扩散阻挡层）；显示行业OLED/LCD（用于透明导电薄膜）；数据存储（用于磁存储薄膜，如硬盘、MRAM）

用于等离子喷涂、激光熔覆、粉末冶金、特种焊条、焊接用原料。用于等离子喷涂、激光熔覆、粉末冶金、特种焊条、焊接用原料。热喷涂靶材（蒸发镀膜、等离子喷涂）：耐磨/防腐涂层（喷涂在涡轮叶片、锅炉管道上，抗高温氧化和腐蚀）；电池集流体（镍薄膜用于锂离子电池负极集流体）；装饰性镀膜（真空蒸镀镍膜用于汽车配件、家居装饰，仿金属质感）

用于等离子喷涂、激光熔覆、粉末冶金、特种焊条、焊接用原料。

镍基复合靶材（多功能化应用）：Ni-Cr靶材、Ni-Al靶材、Ni-Y₂O₃靶材

化学成分化学成分

化学成分