陶瓷靶材制备喷涂氧化锆粉

陶瓷靶材制备喷涂氧化锆粉

纯度：99.99% 99.9% 99.5%

粒度：15-45μm 15-53μm；150-270目 150-325目

可根据客户要求定制生产

产品及公司优势

产品纯度高，分布均匀，比表面积大，高表面活性，松装密度低，喷涂效果好。

我司自主研发多条制粉生产线和真空熔炼生产线，靶材用喷涂粉与靶材锭坯已实现批量化生产，有稳定供应的长期客户，检验严格，库存充足。

系列产品

产品应用

作为陶瓷靶材背板涂层：采用等离子喷涂法将氧化锆粉喷涂在背板上，可得到致密度≥95％、纯度≥99.95％的氧化锆涂层。该涂层微观均匀致密，绝缘性能优良，能有效防止杂质带入，提高膜溅射的纯度及良品率，保护靶材及背板，确保陶瓷靶材溅射顺利进行。

氧化锆作用之一为喷涂材料。氧化锆作用之一为喷涂材料。用于制备氧化锆陶瓷靶材：用于多种薄膜材料的制备。例如，在电子行业中，可用于制造薄膜晶体管（TFT）和屏幕的保护层；在光学领域，可用于制备光学玻璃的抗反射膜或保护膜等；在能源行业的光伏电池中，氧化锆靶材制备的薄膜可提高光电转换效率和抗环境腐蚀能力。

氧化锆作用之一为喷涂材料。

作为热障涂层靶材原料：将氧化钇部分稳定的氧化锆粉制成陶瓷靶材，采用电子束物理气相沉积（EB - PVD）技术制备热障涂层，用于航空、航天及民用领域的热端部件，如燃料轮机的喷嘴、叶片、燃烧室等。

产品成分产品成分

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