99.8%喷涂铬粉

99.8%喷涂铬粉

纯度：99.5% 99.8% 99.9% 99.95%

粒度：15-45μm 15-53μm；140-270目 80-325目

可根据客户要求定制生产

产品优势及特点

我司采用雾化工艺制备喷涂铬粉，颗粒形态为球形或类球形粉体，纯度高，流动性高，粉末粒度均匀，喷涂效果好。

公司优势：公司拥有多条自主研发的先进制粉生产线，开展包括从粉末试制到小批量制备、应用验证及批量化生产的全流程服务。我司拥有国际化检测中心，配备10余台检测设备，品控严格，成分稳定，价格合理，可为客户提供各种优质的粉体材料。靶材用喷涂粉已实现批量化生产，有稳定供应的长期客户。

系列产品

产品应用

主要用于靶材喷涂、激光熔覆、喷焊、等离子喷涂等。

溅射靶材（磁控溅射、离子溅射）：光学薄膜（制备高反射率铬膜，如望远镜镜面、激光反射镜；用于多层膜系）；半导体与显示行业（集成电路IC，作为导电层或阻挡层；平板显示OLED、LCD：铬膜用作掩膜版或电极材料）；装饰镀膜（汽车/家电表面的耐磨装饰镀层）

热喷涂靶材（蒸发镀膜）：真空镀膜（通过电子束蒸发或电弧蒸发铬粉，在塑料、玻璃基材上镀铬，如汽车灯罩、手机外壳）；耐磨涂层预制（将铬粉喷涂到临时基体上，再通过剥离转移形成独立薄膜，如柔性电子器件）

制备铬基复合靶材（Cr-Si靶材、Cr-N靶材、Cr-Al-Y靶材）

也可用于硬质合金、金刚石工具、不锈钢、陶瓷等。

产品成分iii产品成分

产品成分

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