磁控溅射高纯铪靶

磁控溅射高纯铪靶

纯度：Zr+Hf≥99.9% 99.95% 99.99%

规格：：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸灵活可定制

晶粒尺寸：≤45μm

产品及公司优势

采用真空熔炼、SPS烧结工艺制备，产品高纯度（锆含量小于0.5%，低可达0.2%），提供GDMS报告支持，高致密度，晶粒细小，溅射面均匀。

我司产品尺寸灵活，交付迅速，满足科研实验、半导体芯片高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

检测中心配备日本日立扫描电镜（5万倍）、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

系列产品

金属靶、陶瓷靶、高熵合金靶、多元合金靶、高纯金属蒸发料、氟化物颗粒、氧化物颗粒、氮化物颗粒、碳化物颗粒、靶材用喷涂粉、靶材坯料等。

产品应用

半导体领域‌：铪靶材在半导体制造过程中用于电子束物理气相沉积（EBPVD）和物理气相沉积（PVD），制造电子器件中的电极、晶体管等元件。其优点是耐高温、耐蚀性强、膜质纯净，能够在高温条件下保持性能稳定。

‌光电子学领域‌：铪靶材用于生产光学薄膜，如反射镜、透镜等。其膜质厚度均匀，具有很好的光学性能‌。

‌航空航天领域‌：铪靶材用于制造发动机部件，提高发动机组件的表面硬度和使用寿命。铪靶材还用于生产高温合金和涡轮叶片等‌。

产品成分产品成分

产品成分