镧钆合金靶 支持定制

镧钆合金靶

镧钆合金靶

成分比例：La40Gd60 、La30Gd70 、La80Gd20 、La70Gd30  ；任意成分定制

常用规格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm;  尺寸灵活可定制

理论密度与颜色：≥99.5%  银白色略带淡蓝的金属光泽；易氧化

产品及公司优势

纯度高、致密度高、晶粒细小、低孔隙率，溅射均匀、尺寸灵活、任意成分定制、品控严格、交期迅速。具有极高的热中子吸收截面、zhuoyue的热稳定性和化学稳定性、高折射率、独特的磁性能等优势。

在生产陶瓷靶、难熔金属靶、多元金属靶上占有优势，通过快速烧结工艺，纯度高达5N，晶粒可控，尺寸灵活，交付迅速，满足科研实验、半导体芯片高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

采用的电子束熔炼（EB）和真空自耗熔炼（VAR）工艺，实现高熔点金属的提纯，支持超大型靶材锭坯（单重500kg-2t）定制开发，纯度达99.99%-99.999%。

检测中心配备日本日立扫描电镜、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

系列产品

金属靶、陶瓷靶、二元合金靶、三元合金钯、多元合金靶、高熵合金靶、高纯金属蒸发料、化合物颗粒、高纯靶材坯料、靶材用喷涂粉等。

产品应用

适用工艺：磁控溅射；脉冲激光沉积（PLD）；电子束蒸发

核工业与核技术（核心应用）：中子吸收涂层（这是其重要且几乎唯一的大规模应用领域。用于在核反应堆、核燃料贮存池、核废料处理设施以及核运输容器的内壁或关键部件上，镀制一层均匀、坚固、极高效的中子屏蔽保护膜）；反应堆控制（可用于制备中子吸收组件上的薄膜，辅助控制反应堆的中子通量）

特种光学与功能薄膜（前沿研究与开发）：高折射率光学薄膜（用于需要极高折射率且对吸收有一定要求的特殊光学膜系中，例如高能激光器中的反射镜或滤光片）；磁光薄膜（探索其在外磁场作用下光学性质的变化，用于研究隔离器、调制器等磁光器件）；辐射探测（作为闪烁体薄膜或辐射稳定涂层的候选材料）

产品成分