SiNb50合金靶

SiNb50合金靶

成分比例：SiNb80/20 SiNb60/40 SiNb50/50 SiNb30/70；任意成分定制

常用规格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸灵活可定制

理论密度：≥98%

产品及公司优势

纯度高、致密度高、晶粒细小、成分均匀无偏析、溅射均匀、尺寸灵活、任意成分定制、品控严格、交期迅速

在生产陶瓷靶、难熔金属靶、多元金属靶上占有优势，通过SPS烧结工艺，纯度高达5N，晶粒可控，小靶材日产能＞25块，尺寸灵活，交付迅速，满足科研实验、半导体芯片高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

采用的电子束熔炼（EB）和真空自耗熔炼（VAR）工艺，实现高熔点金属的精准提纯，支持超大型靶材锭坯（单重500kg-2t）定制开发，纯度达99.99%-99.999%。

检测中心配备日本日立扫描电镜（5万倍）、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

系列产品

金属靶、陶瓷靶、二元合金靶、多元合金靶、高熵合金靶、高纯金属蒸发料、化合物颗粒、高纯靶材坯料，靶材用喷涂粉等。

产品应用

半导体与微电子工业：集成电路接触层（MOSFET源/漏极硅化物接触层）、铜互连阻挡层

高温防护涂层：航空发动机叶片涂层（涡轮叶片抗热震涂层）、火箭发动机喷管（燃烧室内壁抗烧蚀涂层）

超导与能源材料：Nb₃Sn超导前驱体（制备低温超导薄膜）、核聚变装置第一壁材料

新能源与储能：锂离子电池负极、固态电解质界面层

光学与功能薄膜：红外反射镜、智能窗热致变色层

产品成分产品成分

产品成分