CVD蒸发镀膜用高纯钴粒

CVD蒸发镀膜用高纯钴粒

纯度：99.95% 99.99% 99.995%

常用规格：φ3*3mm φ6*6mm钴粒 10*10*2mm钴片 或根据客户要求生产。

产品优势及特点

纯度高，杂质低，化学成分均匀，产品稳定。 库存大，供货及时。

系列产品

金属靶、陶瓷靶、高熵合金靶、多元合金靶、高纯金属蒸发料、氟化物颗粒、氧化物颗粒、氮化物颗粒、碳化物颗粒、靶材用喷涂粉等。

产品应用

产品主要应用于溅射靶材，CVD蒸发镀膜。

用于制造X射线管阴极和一些特殊制品。

用于制造合金，热强合金，硬质合金、焊接合金，以及各种含钴合金钢，钕铁硼添加，永磁材料等。

产品成分产品成分

产品成分