99.999%高纯铜粒

99.999%高纯铜粒

纯度：≥99.9% 99.99% 99.999%

生产规格：6*6mm 3*6mm 3*3mm或定制生产

产品及公司优势

纯度高，成分均匀，切割整齐光滑，易配料，市场占有率高，用户反馈良好，对标国际。

我司致力于溅射靶材及真空镀膜产品研发生产15余年，工厂2022年搬迁于河北张家口，拥有多条生产线，配备高端自主研发设备和1000平米超大实验室。

系列产品

金属靶、陶瓷靶、高熵合金靶、多元合金靶、高纯金属蒸发料、氟化物颗粒、氧化物颗粒、氮化物颗粒、碳化物颗粒、靶材用喷涂粉等。

产品应用

功能膜，金属反射膜。

制造集成电路、半导体器件的关键基础材料。

化学成分iii化学成分

化学成分