高纯铌旋转靶 支持定制

高纯铌旋转靶

高纯铌旋转靶

纯度：≥99.95%   99.99% ；可定制

常用规格：外径70-160mm；长度800-3000mm；壁厚3-10mm;  尺寸灵活可定制

晶粒尺寸：＜100μm

理论密度与颜色：≥99%  银灰色至钢灰色，明亮金属光泽

产品工艺及公司优势

生产工艺：粉末制备→冷等静压；模具压制→高温烧结→热处理→机械加工→质检

产品特点与优势：1. 纯度高、致密度高、晶粒细小、成分稳定、低孔隙率，溅射均匀、膜层厚度稳定、尺寸灵活、任意元素定制、品控严格、交期迅速。2. 高熔点、优良的耐腐蚀性、良好的延展性、临界温度高（重要超导材料）、与硅反应性低、利用率高、放电性能稳定、使用寿命长、沉积速率高。

产品凭借以上优势，可满足科研实验、半导体高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

公司采用的粉末冶金（P/M）、电子束熔炼（EB）和真空自耗熔炼（VAR）工艺，实现高熔点金属的提纯，支持超大型靶材锭坯、管坯（单重500kg-2t）定制开发，纯度达99.99%-99.999%。

检测中心配备日本日立扫描电镜、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。能够与客户共同开发定制化产品，解决前沿技术难题。

系列产品

铌旋转靶/铌平面靶/铌圆靶/铌管靶/铌管坯/铌靶材坯料

金属靶、陶瓷靶、合金靶、高熵合金靶、蒸发料、化合物颗粒、高纯靶材坯料、靶材用喷涂粉等。

提供提供高纯锭、棒、板、片、丝、粒、熔炼铌、铌合金等金属铌制品

产品应用

适用工艺：直流磁控溅射；射频磁控溅射；反应性磁控溅射

主要应用于触摸屏、半导体、低辐射玻璃和AR涂层等领域器件的镀膜。

超导薄膜：氮化铌 (NbN) 薄膜，用于制备超导量子干涉器件（SQUID）、超导 (SNSPD) 和超导射频腔（如粒子加速器）

微电子学-阻挡层：在集成电路中，作为铜互连线和硅基底之间的扩散阻挡层，防止铜原子扩散到硅中导致器件失效

装饰与耐磨涂层：氮化铌（NbN）薄膜呈现美丽的金黄色，硬度高、耐磨性好，广泛用于手表、首饰、手机中框等产品的装饰性和功能性涂层

光学薄膜：铌金属膜和氧化铌（Nb₂O₅）薄膜具有高折射率和良好的化学稳定性，用于精密光学镜头、滤光片等多层膜系中

耐腐蚀涂层：纯铌或铌合金涂层用于特殊环境下的耐酸、耐碱保护

产品成分

【高纯铌旋转靶 支持定制】

在现代高科技材料领域，铌作为一种重要的稀有金属，因其独特的物理和化学性能被广泛应用于半导体、超导材料、航空航天及真空镀膜等产业。北京兴荣源科技有限公司专注于高纯铌旋转靶的研发与制造，致力于为客户提供高质量、可定制化的产品解决方案，满足不同领域的多样化需求。

一、高纯铌旋转靶的材料优势

铌具有出色的耐腐蚀性、高熔点（约2468℃）、良好的导电性和导热性，这些特性使得铌靶在电子束蒸发、磁控溅射等物理气相沉积工艺中表现优异。高纯度是保证靶材性能稳定和薄膜质量的关键，北京兴荣源科技确保铌靶的杂质含量极低，达到电子工业所需的严格标准。

铌的柔韧性能允许靶材在旋转靶系统中保持良好机械稳定性，减少因热胀冷缩带来的变形风险，延长设备使用寿命。这些性能直接影响薄膜的均匀性和附着力，是高端光学膜和电子器件制造bukehuoque的关键材料。

二、旋转靶的技术重要性

旋转靶技术相比传统固定靶有显著优势。它通过靶体的旋转运动，使靶材受热更加均匀，避免局部过热烧损，提高了靶材利用率和薄膜沉积的均一性。对于铌这种高熔点金属而言，旋转靶能够有效控制溅射过程中的温度分布和靶面形貌，保证薄膜的稳定质量。

北京兴荣源科技生产的铌旋转靶采用先进的加工工艺，包括的机械加工和先进的真空退火处理，保证靶材密度高、内部无气孔和裂纹，确保在高强度溅射条件下性能可靠。

三、支持定制，满足多样需求

不同的应用场景对铌靶的尺寸、形状、纯度及工艺性能有不同要求。无论是薄膜厚度管理的精细控制，还是适应特殊设备的靶体设计，北京兴荣源科技具备灵活的定制能力。

客户可根据自己的设备规格和工艺参数提出具体需求，公司提供从材料选取、靶体设计、加工制造到后期质量检测的一站式服务，确保每批产品都能匹配特定应用需求。

四、可能被忽略的技术细节

• 靶材密度和结构均匀性对溅射效率的影响非常大。密度不足或内部缺陷会导致溅射不均，影响镀膜效果。

• 靶面平整度关系到靶的旋转稳定性及溅射均匀度，细微的表面缺陷可能带来机械振动和杂质脱落。

• 靶材的应力状态在高温溅射环境中决定其变形趋势和寿命，恰当的热处理工艺能够有效释放应力。

• 定制时的材料溯源及质量跟踪体系保证每一款产品都能追溯原料来源和生产环节，减少风险。

五、为什么选择北京兴荣源科技有限公司

北京作为中国科技创新的重要推动力量，拥有丰富的科研资源和先进制造业基础。兴荣源科技根植于北京科技土壤，依托本地高精尖技术人才和完善供应链，保障产品研发和制造的连续性和高效性。

公司着眼于细节管理，推行严格的质量把控和科学的客户服务体系。无论是样品试用还是批量交付，都保证过程中每一步严谨执行。客户反馈显示，兴荣源的铌旋转靶不仅性能稳定，更能大幅度提升其产品工艺的稳定性和出膜效率。

六、展望未来市场

随着新材料和新技术的快速发展，铌材料的需求将持续增长，尤其是新型超导器件、量子计算核心硬件、先进电子器件领域。定制化高纯铌旋转靶的市场空间广阔。

北京兴荣源科技依托丰富的行业经验和技术积累，支持客户创新发展，助力中国高端制造迈向更高水平。针对不同需求提供个性化解决方案，将持续推动铌靶技术的进步和应用深化。

而言，高纯铌旋转靶作为先进溅射装备的关键部件，其质量直接影响终端产品性能。北京兴荣源科技有限公司凭借高纯度材料源头、高水平制造工艺及灵活定制服务，成为行业的合作伙伴。选择兴荣源的铌旋转靶，是提升产品竞争力和工艺稳定性的有效路径。