铜硼合金靶

铜硼合金靶

成分比例：CuB₀₅ 、CuB₂、CuB₄ ；任意成分定制

常用规格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸灵活可定制

理论密度与颜色：≥98% 暗红棕色至紫铜色（类似高硼铜）

产品及公司优势

纯度高、致密度高、晶粒细小、低孔隙率，溅射均匀、尺寸灵活、任意成分定制、品控严格、交期迅速。高硬度，耐磨度提升，低溅射速率，具有热稳定性，膜层致密性好，沉积薄膜孔隙率低，与基材附着力强。

在生产陶瓷靶、难熔金属靶、多元金属靶上占有优势，通过快速烧结工艺，纯度高达5N，晶粒可控，尺寸灵活，交付迅速，满足科研实验、半导体芯片高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

采用的电子束熔炼（EB）和真空自耗熔炼（VAR）工艺，实现高熔点金属的精准提纯，支持超大型靶材锭坯（单重500kg-2t）定制开发，纯度达99.99%-99.999%。

检测中心配备日本日立扫描电镜、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

系列产品

金属靶、陶瓷靶、二元合金靶、三元合金钯、多元合金靶、高熵合金靶、高纯金属蒸发料、化合物颗粒、高纯靶材坯料、靶材用喷涂粉等。

产品应用

适用工艺：磁控溅射（DC / RF）

微电子领域：扩散阻挡层，在硅芯片中沉积 Cu-B 合金膜，阻止铜向介电层扩散

耐磨涂层：工具涂层，用于切削刀具、模具表面

深空红外遮光罩：詹姆斯·韦伯望远镜遮光板深空红外遮光罩：詹姆斯·韦伯望远镜遮光板光学薄膜：红外反射膜（用于节能视窗）

深空红外遮光罩：詹姆斯·韦伯望远镜遮光板

新能源器件：锂电集流体涂层，提升导电性并抑制枝晶

产品成分产品成分

产品成分