钴锗合金靶

钴锗合金靶

成分比例：Co-20Ge、Co-25Ge ；任意成分定制

常用规格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸灵活可定制

理论密度与颜色：≥98% 银灰色金属光泽，略带蓝调（因锗的半导体特性影响反射光谱）

产品及公司优势

纯度高、致密度高、晶粒细小、低孔隙率，溅射均匀、尺寸灵活、任意成分定制、品控严格、交期迅速。具有低电阻率薄膜，热稳定性，附着强度好，减少膜层剥离，溅射速率高等优势。

在生产陶瓷靶、难熔金属靶、多元金属靶上占有优势，通过快速烧结工艺，纯度高达5N，晶粒可控，尺寸灵活，交付迅速，满足科研实验、半导体芯片高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

采用的电子束熔炼（EB）和真空自耗熔炼（VAR）工艺，实现高熔点金属的精准提纯，支持超大型靶材锭坯（单重500kg-2t）定制开发，纯度达99.99%-99.999%。

检测中心配备日本日立扫描电镜、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

系列产品

金属靶、陶瓷靶、二元合金靶、三元合金钯、多元合金靶、高熵合金靶、高纯金属蒸发料、化合物颗粒、高纯靶材坯料、靶材用喷涂粉等。

产品应用

适用工艺：直流磁控溅射、射频溅射

半导体器件：相变存储器（PCRAM）（Ge-Sb-Te系薄膜的电极接触层）；阻挡层/粘附层（在Cu互连中替代Ta/TaN）；硅化物接触（CoGe₂用于CMOS源/漏极欧姆接触）

功能薄膜：热电薄膜（Co-Ge-Sb系热电转换层）、磁传感层（与Fe、Mn等复合制备自旋电子学薄膜）

深空红外遮光罩：詹姆斯·韦伯望远镜遮光板深空红外遮光罩：詹姆斯·韦伯望远镜遮光板光学涂层：红外光学器件（用于3–5μm波段保护膜）

深空红外遮光罩：詹姆斯·韦伯望远镜遮光板

产品成分产品成分

产品成分