高折射率氧化铬颗粒

高折射率氧化铬颗粒Cr₂O₃

纯度：≥99.95% 99.99%

常用规格：1-5mm 3-6mm

类型：烧结（绿色/黑色）

产品及公司优势

高纯，高折射率，高附着率，膜层性能出色，品控严格，质量稳定，供货及时。可根据客户要求定制。

采用的电子束熔炼（EB）和真空自耗熔炼（VAR）工艺，实现高熔点金属的精准提纯，支持各种靶材材料定制开发，纯度达99.99%-99.999%。

在生产高纯金属颗粒、合金颗粒、化合物颗粒上占有优势，通过SPS快速烧结，纯度高达5N，交付迅速，满足科研实验、半导体高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

检测中心配备日本日立扫描电镜（5万倍）、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

系列产品

金属靶、陶瓷靶、高熵合金靶、二元/三元/多元合金靶、高纯金属蒸发料、氟化物颗粒、氧化物颗粒、氮化物颗粒、碳化物颗粒、靶材高纯坯料、靶材用喷涂粉等。

产品应用

光学镀膜：太阳能选择性吸收涂层、红外反射镜、防反射膜等

电子与半导体器件：电阻薄膜、电容介质层、透明导电氧化物（TCO）基底

耐磨与防护涂层：刀具、模具、机械部件、航空发动机叶片等

装饰与功能性涂层：手表、珠宝、电子产品外壳

技术参数