科研用三氧化钒靶

纯度：≥99.9% 99.99% 99.999% 常用规格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸灵活可定制 密度：≥98% - 在生产陶瓷靶、难熔金属靶、多元金属靶上占有优势，通过SPS高温烧结，纯度高达5N，晶粒可控，小靶材日产能＞25块，尺寸灵活，交付迅速，满足科研实验、半导体芯片高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。 采用的电子束熔炼（EB）和真空自耗熔炼（VAR）工艺，实现高熔点金属的精准提纯，支持超大型靶材锭坯（单重500kg-2t）定制开发，纯度达99.99%-99.999%。 检测中心配备日本日立扫描电镜（5万倍）、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

金属靶、陶瓷靶、二元合金靶、多元合金靶、高熵合金靶、高纯金属蒸发料、化合物颗粒、高纯靶材坯料，靶材用喷涂粉等。

适用于磁控溅射工艺：锂电负极包覆层 PLD工艺：量子限域器件 CVD前驱体工艺：智能传感薄膜 电子束蒸发工艺：红外调制器件 市场前景：固态电池领域、智能传感领域