平面铼靶

平面铼靶平面铼靶

平面铼靶

纯度：99.95% 99.99%

规格：Φ≥20mm，50-100mm，＞100mm；T2-10mm；公差±0.1mm; 尺寸灵活可定制

密度：＞99%

晶粒尺寸：≤20μm

产品及公司优势

我司Re纯度可达4N以上，杂质含量低，晶界清晰，孔隙率低，表面光洁，使用寿命长。提供高纯锭、粒、靶材、高纯粉末等。

在生产陶瓷靶、难熔金属靶、多元金属靶上占有优势，通过SPS烧结工艺，纯度高达5N，晶粒可控，尺寸灵活，交付迅速，满足科研实验、半导体芯片高端制造的严苛要求，同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

检测中心配备日本日立扫描电镜（5万倍）、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

系列产品

平面靶/圆靶

金属靶、陶瓷靶、高熵合金靶、二元合金靶、三元合金靶、多元合金靶、高纯金属蒸发料、化合物颗粒、靶材坯料、靶材用喷涂粉等。

产品应用

适用设备：应用于各种单靶溅射系统、多靶溅射系统、离子溅射系统等磁控溅射设备。

应用领域：科学实验或研究领域应用，微纳加工、器件制作等相关定制产品。广泛应用于半导体芯片、太阳能光伏、平面显示、特种涂层等。

产品成分产品成分

产品成分