功能薄膜制备钒靶坯料

功能薄膜制备钒靶坯料

纯度：≥99.9%，可定制

常用规格：锭/棒Φ120/170/240/300，L≤1600mm; 板L≤1180mm，W≤230mm，T≤22mm; 根据客户要求生产

系列产品

99.9%钒锭、钒板、钒靶、钒管

提供NiCr NiV7/93、Cr、Zr、Ni、Co、Hf等系列高纯靶材坯料

产品及公司优势

采用的电子束熔炼（EB）和真空自耗熔炼（VAR）工艺，实现高熔点金属的精准提纯，靶材锭坯纯度达99.99%-99.999%，显著提升靶材成膜均匀性与沉积效率，满足半导体级靶材的严苛要求。

检测中心配备日本日立扫描电镜（5万倍）、ICP光谱仪等检测设备，对材料成分、晶粒度、致密度等20余项指标全流程监控，严格把控品质。

针对客户需求，提供难熔金属靶材解决方案，支持超大型锭坯（单重500kg-2t）定制开发，并自主研发SPS真空烧结设备，实现快速烧结（小靶材日产能≥25块），同步提供靶材实验服务，7-15天快速交付，加速客户产品迭代与性能验证，持续为全球靶材行业赋能。

产品应用

半导体与微电子领域薄膜制备：集成电路（IC），存储器件

平板显示与触控面板薄膜制备：OLED/LCD显示，透明导电膜

光学与光电应用薄膜制备：光学镀膜，太阳能电池

硬质涂层薄膜制备

新能源与催化薄膜制备：锂/钠离子电池，催化涂层

科研与特殊功能材料：超导材料，智能材料（制备传感器或开关器件）

产品成分产品成分

产品成分